Differences

This shows you the differences between two versions of the page.

--- alamode:フォノンの分散と状態密度 [2021/07/02 23:17]
koudai
+++ alamode:フォノンの分散と状態密度 [2021/08/17 02:49] (current)
koudai [フォノンの状態密度]
@@ Line 3: / Line 3: @@
   * Siを例にフォノンの分散と状態密度を計算します。
   * 計算には超格子の作成が必要です。
-  * 化合物で見られる極性半導体ではTO-LO分裂というものを考えないといけませんが、それは別のページで解説予定です。
+  * 化合物で見られる極性半導体ではLO-TO分裂というものを考えないといけませんが、それは別のページで解説します。
   * 事前に cif2cell をインストールしてください。
     * [[QuantumESPRESSO:CIF2Cell]]
@@ Line 260: / Line 260: @@
 {{ :alamode:dos.png?400 |}}
-ついでに Si_333.thermo に格子の熱力学量（比熱、エントロピー、内部エネルギー、自由エネルギー）の温度依存性も出力されます。
+フォノンを自由ボソンとしたときの熱力学量（比熱、エントロピー、内部エネルギー、自由エネルギー）の温度依存性も Si_333.thermo に出力されます。
 温度の刻みはデフォルトで DT = 10 (K)ですので、より細かく取りたい場合は<nowiki>&general</nowiki>フィールドで DT の値を指定してください。

雑多な記録